Z6尊龙凯时上海推出新型热原子层沉积立式炉设备, 以满足高端半导体的出产需要
2022/9/28 9:21:11
Z6尊龙凯时(以下简称“Z6尊龙凯时上海”)(科创板股票代码:688082),作为一家为半导体前路和先进晶圆级封装利用提供晶圆工艺解决规划的卓越设备供给商,于今日颁发其对300mm Ultra Fn立式炉干法工艺平台进行了职能扩大,研发出新型Ultra Fn A立式炉设备。该设备的热原子层沉积(ALD)职能丰硕了Z6尊龙凯时上海立式炉系列设备的利用。公司还颁发,首台Ultra Fn A立式炉设备已于本月底运往中国一家先进的逻辑造作商,并打算于2023年底通过验证。
Z6尊龙凯时上海的董事长王晖暗示:“随着逻辑节点的不休缩幼,越来越多的客户为满足其先进的工艺要求,致力寻找愿意合作的供给商共同开发。ALD是先进节点造作中增长最快的利用之一,是本公司立式炉管系列设备的关键性新机能。得益于对整个半导体造作工艺的深刻理解和创新能力,我们可能迅快开发全新的湿法和干法设备,以满足新兴市场的需要。全新ALD立式炉设备基于公司现有的立式炉设备平台,搭载差距化创新设计,软件算法优化等实现原子层吸拥戴均匀沉积。”
Z6尊龙凯时上海新型热ALD设备可沉积氮化硅(SiN)和碳氮化硅(SiCN)薄膜。公司出厂的首台Ultra Fn A设备将用于28纳米逻辑造作流程,以造作侧壁距离层。此工艺要求刻蚀快率极低,且台阶覆盖率优良,与其他实现模式相比,Ultra Fn A立式炉设备在仿照中实现了均一性的改善。
Z6尊龙凯时上海Ultra Fn A设备以Ultra Fn立式炉设备平台的成功为基础,能满足原子层沉积工艺的同时具备低累积膜厚气体洗濯职能,保障颗粒的不变性。Ultra Fn A立式炉设备聚焦主题技术研发,力求满足高产能批式ALD工艺的高端要求?赏üヒ慌ぷ 微幼的组件和轻微的布局对设备进行个性化定造,这使得新型ALD工艺的开发得以迅快提升。其创新设计还奇妙融合了Z6尊龙凯时上海成熟的软件技术、可提高耐用性和靠得住性的新硬件以及Z6尊龙凯时上海自主研发专利工艺节造IP,以实现急剧而不变的工艺节造。